普陀區雙光子聚合微納3D打印三微光刻 納糯三維科技供應

Nanoscribe公司推出針對微光學(xué)元件（如微透鏡、棱鏡或復雜自由曲面光學(xué)器件）具有特殊性能的新型打印材料，IP-n162光刻膠。全新光敏樹(shù)脂材料具有高折射率，高色散和低阿貝數的特性，這些特性對于3D微納加工創(chuàng )新微光學(xué)元件設計尤為重要，尤其是在沒(méi)有旋轉對稱(chēng)性和復合三維光學(xué)系統的情況下。由于在紅外區域吸收率不高，因此光敏樹(shù)脂成為了紅外微光學(xué)的優(yōu)先，同時(shí)也是光通訊、量子技術(shù)和光子封裝等需要低吸收損耗應用的相當好的選擇。全新IP-n162光刻膠是為基于雙光子聚合技術(shù)的3D打印量身定制的打印材料。高折射率材料可實(shí)現具有高精度形狀精度的創(chuàng )新微光學(xué)設計，并將高精度微透鏡和自由曲面3D微光學(xué)提升到一個(gè)新的高度。由于其光學(xué)特性，高折射率聚合物可促進(jìn)許多運用突破性技術(shù)的各種應用，例如光電應用中，他們可以增加顯示設備、相機或投影儀鏡頭的視覺(jué)特性。此外，這些材料在3D微納加工技術(shù)應用下可制作更高階更復雜更小尺寸的3D微光學(xué)元件。例如圖示中可應用于微型成像系統，內窺鏡和AR/VR3D感測的微透鏡。長(cháng)遠來(lái)看，微納3D打印會(huì )顛覆傳統制造，實(shí)現服務(wù)的規?；?，屬于產(chǎn)業(yè)顛覆。普陀區雙光子聚合微納3D打印三微光刻

全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級無(wú)掩膜光刻系統QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺設備，可實(shí)現在25cm?面積內打印任何結構，很大程度推動(dòng)了生命科學(xué)，微流體，材料工程學(xué)中復雜應用的快速原型制作。QuantumXshape作為具備光敏樹(shù)脂自動(dòng)分配功能的直立式打印系統，非常適合標準6英寸晶圓片工業(yè)批量加工制造。高速3D微納加工系統QuantumXshape可實(shí)現出色形狀精度和高精度制作。這種高質(zhì)量的打印效果是結合了特別先進(jìn)的振鏡系統和智能電子系統控制單元的結果，同時(shí)還離不開(kāi)工業(yè)級飛秒脈沖激光器以及平穩堅固的花崗巖操作平臺。QuantumXshape具有先進(jìn)的激光焦點(diǎn)軌跡控制，可操控振鏡加速和減速至特別快的掃描速度，并以1MHz調制速率動(dòng)態(tài)調整激光功率。普陀區國產(chǎn)微納3D打印工藝常見(jiàn)的3D打印技術(shù)有哪些？歡迎咨詢(xún)Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司。

多年來(lái)，Nanoscribe在微觀(guān)和納米領(lǐng)域一直非常出色，并且參與了很多3D打印的項目，包括等離子體技術(shù)、微光學(xué)等工業(yè)微加工相關(guān)項目。如今，Nanoscribe正在與美因茲大學(xué)和帕德博恩大學(xué)在內的其他行業(yè)帶領(lǐng)機構一起開(kāi)發(fā)頻率和功率穩定的小型二極管激光器。該團隊的項目為期三年，名為Miliquant，由德國聯(lián)邦教育和研究部（簡(jiǎn)稱(chēng)BMBF）提供資助。他們的研發(fā)成果——3D打印光源組件，將用于量子技術(shù)創(chuàng )新，并可以應用在**診斷、自動(dòng)駕駛和細胞紅外顯微鏡成像之中。研發(fā)團隊將開(kāi)展多項實(shí)驗，開(kāi)發(fā)工業(yè)傳感器和成像系統，這就需要復雜的研發(fā)工作，還需要開(kāi)發(fā)可靠的組件，以及組裝和制造的新方法。

Nanoscribe的PhotonicProfessional設備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學(xué)組件打印于微孔支架材料上（例如孔狀硅材及二氧化硅）。突出特點(diǎn)是不再像常規的雙光子聚合（2PP）那樣在基體表面進(jìn)行直寫(xiě)，而是在孔型支架內。通過(guò)調整直寫(xiě)激光的曝光參數可以改變微孔支架內材料的聚合量，從而影響打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技術(shù)（通過(guò)激光束曝光控制的亞表面折射率）可以在保證亞微米級別的空間分辨率同時(shí)，對折射率的調節范圍甚至超過(guò)0.3。為了證明SCRIBE新技術(shù)的巨大潛力，科研人員打印了眾多令人矚目的光學(xué)組件，例如已經(jīng)提到的龍勃透鏡。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡（如圖示）。通過(guò)色散透鏡聚焦的光因波長(cháng)不同焦點(diǎn)位置也不盡相同。通過(guò)組合不同折射率的透鏡可幫助降低透鏡的色差。在給出的例子中，成像中的熒光強度和折射率高度相關(guān)，同時(shí)將打印的雙透鏡中的每個(gè)單獨透鏡可視化。微納米3D打印系統基于新型的面投影微光刻技術(shù)原理設計而成，能實(shí)現多材料的微納尺度材料三維打印。

微納3D打印技術(shù)的優(yōu)勢主要體現在以下幾個(gè)方面：高精度和復雜性：微納3D打印技術(shù)可以在微米和納米尺度上實(shí)現高精度的打印，能夠制造出具有復雜幾何形狀和微觀(guān)結構的零件。這種能力使得微納3D打印在生物醫學(xué)、電子、光學(xué)和航空航天等領(lǐng)域具有廣泛的應用前景。特別是在需要高精度和復雜結構的器件制造中，微納3D打印技術(shù)展現出了獨特的優(yōu)勢。定制化設計：微納3D打印技術(shù)可以根據用戶(hù)需求進(jìn)行定制化設計，滿(mǎn)足個(gè)性化需求。設計師可以根據實(shí)際應用場(chǎng)景，靈活調整打印參數和材料，實(shí)現創(chuàng )新設計。這種定制化設計的能力使得微納3D打印在特殊材料和復雜結構的制造中具有很高的靈活性。材料利用率高：與傳統的加工方法相比，微納3D打印技術(shù)的材料利用率更高。在打印過(guò)程中，只有需要的材料才會(huì )被使用，從而避免了不必要的浪費。這不僅有助于降低生產(chǎn)成本，還能提高生產(chǎn)效率，減少對環(huán)境的影響。廣泛的應用范圍：微納3D打印技術(shù)適用于多種材料和結構類(lèi)型，可以制造金屬、塑料、陶瓷等多種材料的微納結構。這使得它在微機電系統、微納光學(xué)器件、微流體器件、生物**和組織工程、新材料等領(lǐng)域具有巨大的應用潛力。此外。無(wú)論是桌面級還是工業(yè)級，常見(jiàn)的3D打印機工作原理都是分層制造。奉賢區灰度光刻微納3D打印服務(wù)商

Nanoscribe于2018年推出了用于微加工和無(wú)掩模光刻的Photonic Professional GT2 微納3D打印。普陀區雙光子聚合微納3D打印三微光刻

事實(shí)上，雙光子聚合加工是在2001年開(kāi)始真正應用在微納制造領(lǐng)域的，其先驅者是東京大阪大學(xué)的Kawata教授以及孫洪波教授。當時(shí)這個(gè)實(shí)驗室在nature上發(fā)表的一篇工作，也就是傳說(shuō)中的納米牛引起了極大的轟動(dòng)：《Finerfeaturesforfunctionalmicrodevices：Micromachinescanbecreatedwithhigherresolutionusingtwo-photonabsorption.》但是，這篇文獻中還進(jìn)行了另外一個(gè)更厲害的工作，這兩位教授做出了當時(shí)世界上特別小的彈簧振子，其加工分辨率達到了120nm，超越了衍射極限，同時(shí)還沒(méi)有使用諸如近場(chǎng)加工之類(lèi)的不太通用的解決方案，而是單純的利用了材料的性質(zhì)。普陀區雙光子聚合微納3D打印三微光刻