奉賢區國產(chǎn)微納3D打印材料 納糯三維科技供應

Nanoscribe稱(chēng)，QuantumX是世界上基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業(yè)系統，目前該技術(shù)正在申請**。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過(guò)在掃描平面內調制激光功率來(lái)完成，從而減少多層微制造所需的打印時(shí)間。Nanoscribe表示，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個(gè)光學(xué)元件、填充因子高達**的陣列，以及可以在直接和無(wú)掩模工藝中實(shí)現各種形狀，如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實(shí)時(shí)控制和監控打印作業(yè)，并通過(guò)交互式觸摸屏控制面板進(jìn)行操作。為了更好地管理和安排用戶(hù)的項目，打印隊列支持連續執行一系列打印作業(yè)。長(cháng)遠來(lái)看，微納3D打印會(huì )顛覆傳統制造，實(shí)現服務(wù)的規?；?，屬于產(chǎn)業(yè)顛覆。奉賢區國產(chǎn)微納3D打印材料

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無(wú)掩模光刻系統的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實(shí)現微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動(dòng)微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統（MEMS）。PhotonicProfessionalGT2系統可以實(shí)現精度上限的3D打印，突破了微納米制造的限制。該打印系統的易用性和靈活性的特點(diǎn)配以特別廣的打印材料選擇使其成為理想的實(shí)驗研究?jì)x器和多用戶(hù)設施黃浦區科研微納3D打印材料Nanoscribe的技術(shù)本質(zhì)上是用一種微型激光來(lái)微納3D打印三維結構。

Nanoscribe首屆線(xiàn)上用戶(hù)大會(huì )于九月順利召開(kāi)，在微流控研究中，通常在針對微流控器件和芯片的快速成型制作中會(huì )結合不同制造方法。亞琛工業(yè)大學(xué)（RWTHUniversityofAachen）和不來(lái)梅大學(xué)（UniversityofBremen）的研究小組提出將三維結構的芯片結構打印到預制微納通道中。生命科學(xué)研究的驅動(dòng)力是三維打印模擬人類(lèi)細胞形狀和大小的支架，以推動(dòng)細胞培養和組織工程學(xué)。丹麥技術(shù)大學(xué)(DTU)和德國于利希研究中心的研究團隊展示了他們的成就，并強調了光刻膠如IP-L780和Nanoscribe新型柔性打印材料IP-PDMS的重要性。在微納光學(xué)和光子學(xué)研究中，布魯塞爾自由大學(xué)的研究人員提出了用于光纖到光纖和光纖到芯片連接的錐形光纖和低損耗波導等解決方案。阿卜杜拉國王科技大學(xué)的研究團隊3D打印了一個(gè)超小型單纖光鑷，以實(shí)現集成微納光學(xué)系統。連接處理是光子集成研究的挑戰。正如明斯特大學(xué)（WWU）研究人員所示，Nanoscribe微納加工技術(shù)正在驅動(dòng)研究用于集成納米多孔電路的混合接口方法。麻省理工學(xué)院（MIT）的科學(xué)家們正在使用Nanoscribe的2PP技術(shù)制造用于高密度集成光子學(xué)的光學(xué)自由形式耦合器。

生物醫學(xué)領(lǐng)域：微納3D打印技術(shù)在此領(lǐng)域的應用尤為突出，可以用于制造生物材料、**器械、藥物載體、細胞和組織培養等。這種技術(shù)的使用有助于提高**診斷水平，為個(gè)性化**和精細**提供了新的可能性。航空航天領(lǐng)域：微納3D打印技術(shù)能夠制造航空航天領(lǐng)域的精密零件和復雜結構，如渦輪發(fā)動(dòng)機的葉片、燃料噴射器等。這些復雜而精細的部件有助于提高航空器的性能和穩定性，對推動(dòng)航空航天技術(shù)的發(fā)展具有重要意義。電子科技領(lǐng)域：該技術(shù)也廣泛應用于電子科技領(lǐng)域，可以制造電子元件、電路板、太陽(yáng)能電池等。這種技術(shù)的使用有助于提高電子產(chǎn)品的性能和降低成本，推動(dòng)電子科技的快速發(fā)展。光學(xué)領(lǐng)域：在光學(xué)領(lǐng)域，微納3D打印技術(shù)可用于制造光學(xué)元件、光學(xué)器件和光電子器件等，有助于提高光學(xué)設備的性能和降低成本。建筑領(lǐng)域：該技術(shù)也被用于建筑領(lǐng)域，制造建筑模型、建筑構件等，有助于提高建筑的設計和建造效率。娛樂(lè )領(lǐng)域：此外，微納3D打印技術(shù)還在娛樂(lè )領(lǐng)域找到了應用，如制造玩具、游戲道具等，為娛樂(lè )行業(yè)提供了新的創(chuàng )意和產(chǎn)品。隨著(zhù)技術(shù)的不斷進(jìn)步和應用領(lǐng)域的不斷拓寬，微納3D打印技術(shù)的應用前景將更加廣闊。同時(shí)，我們也期待看到更多創(chuàng )新性的應用案例。Nanoscribe的激光光刻系統用于3D打印世界上排名頭一位小的強度超高的3D晶格結構。

Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)具有極高設計自由度和超高精度的特點(diǎn)，結合具備生物兼容特點(diǎn)的光敏樹(shù)脂和生物材料，開(kāi)發(fā)并制作真正意義上的高精度3D微納結構，適用于生命科學(xué)領(lǐng)域的應用，如設計和定制微型生物醫學(xué)設備的原型制作。Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來(lái)產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構。PhotonicProfessionalGT2結合了設計的靈活性和操控的簡(jiǎn)潔性，以及比較廣的材料-基板選擇。因此，它是一個(gè)理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設備，適用于多用戶(hù)共享平臺和研究實(shí)驗室。Nanoscribe的3D無(wú)掩模光刻機目前已經(jīng)分布在30多個(gè)**的前沿研究中，超過(guò)1,000個(gè)開(kāi)創(chuàng )性科學(xué)研究項目是這項技術(shù)強大的設計和制造能力特別好的證明。更多關(guān)于Nanoscribe微納米3D打印的內容，請致電Nanoscribe中國分公司納糯三維科技（上海）有限公司。奉賢區灰度光刻微納3D打印服務(wù)商

在科研領(lǐng)域,Nanoscribe 的系列3D打印設備幫助推動(dòng)著(zhù)微納光學(xué)，微機電系統等等領(lǐng)域的研究和發(fā)展。奉賢區國產(chǎn)微納3D打印材料

Nanoscribe獨有的體素調諧技術(shù)2GL®可以在確保優(yōu)越的打印質(zhì)量的同時(shí)兼顧打印速度，實(shí)現自由曲面微光學(xué)元件通過(guò)3D打印精確對準到光纖或光子芯片的光學(xué)軸線(xiàn)上。NanoscribeQX平臺打印系統配備光纖照明單元用于光纖芯檢測，確保打印精細對準到光纖的光學(xué)軸線(xiàn)上。共焦檢測模塊用于3D基板拓撲構圖，實(shí)現在芯片的表面和面上的精細打印對準。Nanoscribe灰度光刻3D打印技術(shù)3Dprintingby2GL®是市場(chǎng)上基于2PP原理微納加工技術(shù)中打印速度**快的。其動(dòng)態(tài)體素調整需要相對較少的打印層次，即可實(shí)現具有光學(xué)級別、光滑以及納米結構表面打印結果。這意味著(zhù)在滿(mǎn)足苛刻的打印質(zhì)量要求的同時(shí)，其打印速度遠遠超過(guò)任何當前可用的2PP三維打印系統。2GL®作為市場(chǎng)上快的增材制造技術(shù)，非常適用于3D納米和微納加工，在滿(mǎn)足優(yōu)越打印質(zhì)量的前提下，其吞吐量相比任何當前雙光子光刻系統都高出10到60倍。奉賢區國產(chǎn)微納3D打印材料