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廣東吉田半導體材料有限公司 光刻膠|錫膏|錫球|錫片
17324409390
廣東吉田半導體材料有限公司
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關(guān)于我們

廣東吉田半導體材料有限公司坐落于松山湖經(jīng)濟技術(shù)開(kāi)發(fā)區,注冊資本 2000 萬(wàn)元,是一家專(zhuān)注于半導體材料研發(fā)、生產(chǎn)和銷(xiāo)售的技術(shù)企業(yè)和廣東省專(zhuān)精特新企業(yè)及廣東省創(chuàng )新型中小企業(yè),我們的產(chǎn)品遠銷(xiāo)全球,與許多世界 500 強企業(yè)和電子加工企業(yè)建立了長(cháng)期合作關(guān)系。 公司產(chǎn)品主要有:芯片光刻膠,納米壓印光刻膠,LCD 光刻膠,半導體錫膏,焊片,靶材等材料,公司是一個(gè)擁有 23 年研發(fā)與生產(chǎn)的綜合性企業(yè)。公司按照 ISO9001:2008 質(zhì)量體系標準,嚴格監控生產(chǎn)制程,生產(chǎn)環(huán)境嚴格執行 8S 現場(chǎng)管理,所有生產(chǎn)材料均采用美國、德國與日本及其他**進(jìn)口的高質(zhì)量材料,確??蛻?hù)能使用到超高質(zhì)量及穩定的產(chǎn)品。 我們將繼續秉承精湛的技術(shù)和專(zhuān)業(yè)的服務(wù),致力于為客戶(hù)提供解決方案,共同推動(dòng)半導體材料的發(fā)展。

廣東吉田半導體材料有限公司公司簡(jiǎn)介

福建正性光刻膠多少錢(qián) 歡迎咨詢(xún) 吉田半導體供應

2025-06-01 00:26:59

關(guān)鍵工藝流程
 涂布與前烘:
? 旋涂或噴涂負性膠,厚度可達1-100μm(遠厚于正性膠),前烘溫度60-90℃,去除溶劑并增強附著(zhù)力。
 曝光:
? 光源以**汞燈G線(xiàn)(436nm)**為主,適用于≥1μm線(xiàn)寬,曝光能量較高(約200-500mJ/cm?),需注意掩膜版與膠膜的貼合精度。
 顯影:
? 使用有機溶劑顯影液(如二甲苯、醋酸丁酯),未曝光的未交聯(lián)膠膜溶解,曝光的交聯(lián)膠膜保留。
 后處理:
? 后烘(Post-Bake):加熱(100-150℃)進(jìn)一步固化交聯(lián)結構,提升耐干法蝕刻或濕法腐蝕的能力。
政策支持:500億加碼產(chǎn)業(yè)鏈。福建正性光刻膠多少錢(qián)

作為中國半導體材料領(lǐng)域的企業(yè),吉田半導體材料有限公司始終以自研自產(chǎn)為戰略,通過(guò) 23 年技術(shù)沉淀與持續創(chuàng )新,成功突破多項 “卡脖子” 技術(shù),構建起從原材料到成品的全鏈條國產(chǎn)化能力。其自主研發(fā)的光刻膠產(chǎn)品已覆蓋芯片制造、顯示面板、精密電子等領(lǐng)域,為國內半導體產(chǎn)業(yè)鏈自主化提供關(guān)鍵支撐。 吉田半導體依托自主研發(fā)中心與產(chǎn)學(xué)研合作,在光刻膠領(lǐng)域實(shí)現多項技術(shù)突破: YK-300 正性光刻膠:分辨率達 0.35μm,線(xiàn)寬粗糙度(LWR)≤3nm,適用于 45nm 及以上制程,良率達 98% 以上,成本較進(jìn)口產(chǎn)品降低 40%,已通過(guò)中芯國際量產(chǎn)驗證。 SU-3 負性光刻膠:支持 3μm 厚膜加工,抗深蝕刻速率 > 500nm/min,成功應用于高通 5G 基帶芯片封裝,良率提升至 98.5%。 JT-2000 納米壓印光刻膠:突破 250℃耐高溫極限,圖形保真度 > 95%,性能對標德國 MicroResist 系列,已應用于國產(chǎn) EUV 光刻機前道工藝。 廈門(mén)低溫光刻膠廠(chǎng)家半導體材料選吉田,歐盟認證,支持定制化解決方案!

廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,主要涵蓋厚板、負性、正性、納米壓印及光刻膠等類(lèi)別,以滿(mǎn)足不同領(lǐng)域的需求。

UV 納米壓印光刻膠:JT-2000 型號,耐強酸強堿,耐高溫達 250°C,長(cháng)期可靠性高,粘接強度高,重量 100g。適用于需要在特殊化學(xué)和高溫環(huán)境下進(jìn)行納米壓印光刻的工藝,如半導體器件制造。

其他光刻膠

水油光刻膠 JT-2001:屬于水油兩用光刻膠,具有工廠(chǎng)研發(fā)、可定制、使用、品質(zhì)保障、性能穩定的特點(diǎn),重量 1L。 水油光刻膠 SR-3308:同樣為水油兩用光刻膠,重量 5L,具備上述通用優(yōu)勢,應用場(chǎng)景。


以 15% 年研發(fā)投入為驅動(dòng),吉田半導體加速 EUV 光刻膠與木基材料研發(fā),**占行業(yè)制高點(diǎn)。布局下一代光刻技術(shù)。
面對極紫外光刻技術(shù)挑戰,吉田半導體與中科院合作開(kāi)發(fā)化學(xué)放大型 EUV 光刻膠,在感光效率(<10mJ/cm?)和耐蝕性(>80%)指標上取得階段性進(jìn)展。同時(shí),公司前瞻性布局木基光刻膠研發(fā),對標日本王子控股技術(shù),探索生物基材料在半導體封裝中的應用。這些技術(shù)儲備為 7nm 及以下制程提供支撐,助力中國在下一代光刻技術(shù)中占據重要地位。光刻膠的關(guān)鍵應用領(lǐng)域。

廣東吉田半導體材料有限公司的產(chǎn)品體系豐富且功能強大。

在光刻膠領(lǐng)域,芯片光刻膠為芯片制造中的精細光刻環(huán)節提供關(guān)鍵支持,確保芯片線(xiàn)路的精細刻畫(huà);

納米壓印光刻膠適用于微納加工,助力制造超精細的微納結構;

LCD 光刻膠則滿(mǎn)足液晶顯示面板生產(chǎn)過(guò)程中的光刻需求,保障面板成像質(zhì)量。

在電子焊接方面,半導體錫膏與焊片性能,能實(shí)現可靠的電氣連接,廣泛應用于各類(lèi)電子設備組裝。

靶材產(chǎn)品在材料濺射沉積工藝中發(fā)揮關(guān)鍵作用,通過(guò)精細控制材料沉積,為半導體器件制造提供高質(zhì)量的薄膜材料。憑借出色品質(zhì),遠銷(xiāo)全球,深受眾多世界 500 強企業(yè)和電子加工企業(yè)青睞 。 無(wú)鹵無(wú)鉛錫膏廠(chǎng)家吉田,RoHS 認證,為新能源領(lǐng)域提供服務(wù)!陜西高溫光刻膠多少錢(qián)

嚴苛光刻膠標準品質(zhì),吉田半導體綠色制造創(chuàng )新趨勢。福建正性光刻膠多少錢(qián)

 吉田半導體納米壓印光刻膠 JT-2000:國產(chǎn)技術(shù)突破耐高溫極限 自主研發(fā) JT-2000 納米壓印光刻膠耐受 250℃高溫,為國產(chǎn)納米器件制造提供關(guān)鍵材料。吉田半導體 JT-2000 納米壓印光刻膠采用國產(chǎn)交聯(lián)樹(shù)脂,在 250℃高溫下仍保持圖形保真度 > 95%。產(chǎn)品采用國產(chǎn)原材料與全自動(dòng)化工藝,其高粘接強度與耐強酸強堿特性,適用于光學(xué)元件、傳感器等精密器件。產(chǎn)品已通過(guò)國內科研機構驗證,應用于國產(chǎn) EUV 光刻機前道工藝,幫助客戶(hù)實(shí)現納米結構加工自主化。 福建正性光刻膠多少錢(qián)

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