北京德國桌面無(wú)掩模光刻機 來(lái)電咨詢(xún) 上海跡亞國際商貿供應

Polos-BESM XL Mk2專(zhuān)為6英寸晶圓設計，寫(xiě)入區域達155×155 mm，平臺雙向重復性精度0.1 ?m，滿(mǎn)足工業(yè)級需求。其搭載20x/0.75 NA尼康物鏡和120 FPS高清攝像頭，支持實(shí)時(shí)觀(guān)測與多層對準。配套的BEAM Xplorer軟件簡(jiǎn)化了復雜圖案設計流程，內置高性能筆記本電腦實(shí)現快速數據處理，成為微機電系統（MEMS）和光子晶體研究的理想工具。無(wú)掩模光刻技術(shù)可以隨意進(jìn)行納米級圖案化，無(wú)需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒(méi)有任何妥協(xié)的情況下，將該技術(shù)帶到了桌面上，進(jìn)一步提升了其優(yōu)勢。POLOS ?：超緊湊設計，納米級精度專(zhuān)攻微流控與細胞芯片。北京德國桌面無(wú)掩模光刻機

在制備用于柔性顯示的納米壓印模板時(shí)，Polos 光刻機的亞微米級定位精度（±50nm）確保了圖案的均勻復制。某光電實(shí)驗室使用該設備，在石英基底上刻制出周期 100nm 的柱透鏡陣列，模板的圖案保真度達 99.8%，邊緣缺陷率低于 0.1%?；诖四０迳a(chǎn)的柔性 OLED 背光模組，亮度均勻性提升至 98%，厚度減至 50μm，成功應用于下一代折疊屏手機，相關(guān)技術(shù)已授權給三家面板制造商。無(wú)掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng )建復雜圖案。一個(gè)新加坡研究團隊通過(guò)無(wú)縫集成硬件和軟件組件，開(kāi)發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統。通過(guò)與計算機輔助設計軟件無(wú)縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統占用空間小，非常適合研究實(shí)驗室，并broad應用于微流體、電子學(xué)和納/微機械系統等各個(gè)領(lǐng)域。該系統的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實(shí)驗室以外的領(lǐng)域，為半導體和**公司提供了利用其功能的機會(huì )。江蘇桌面無(wú)掩模光刻機光源波長(cháng)405微米環(huán)保低能耗設計：固態(tài)光源能耗較傳統設備降低30%，符合綠色實(shí)驗室標準。

在航空航天科研中，某科研團隊致力于研發(fā)用于環(huán)境監測和偵察的微型飛行器。其中，制造輕量化且高性能的微機械部件是關(guān)鍵。德國 Polos 光刻機憑借無(wú)掩模激光光刻技術(shù)，助力團隊制造出尺寸precise、質(zhì)量輕盈的微型齒輪、機翼骨架等微機械結構。例如，利用該光刻機制造的微型齒輪，齒距精度達到納米級別，極大提高了飛行器動(dòng)力傳輸系統的效率和穩定性?；诖?，科研團隊成功試飛了一款新型微型飛行器，其續航時(shí)間和飛行靈活性遠超同類(lèi)產(chǎn)品，為未來(lái)微型飛行器在復雜環(huán)境下的應用奠定了堅實(shí)基礎。

在organ芯片研究中，模擬人體organ微環(huán)境需要微米級精度的三維結構。德國 Polos 光刻機憑借無(wú)掩模激光光刻技術(shù)，幫助科研團隊在 PDMS 材料上構建出仿生血管網(wǎng)絡(luò )與組織界面。某再生醫學(xué)實(shí)驗室使用 Polos 光刻機，成功制備出肝芯片微通道，其內皮細胞黏附率較傳統方法提升 40%，且可通過(guò)軟件實(shí)時(shí)調整通道曲率，precise模擬肝臟血流動(dòng)力學(xué)。該技術(shù)縮短了organ芯片的研發(fā)周期，為藥物肝毒性測試提供了更真實(shí)的體外模型，相關(guān)成果入選《自然?生物技術(shù)》年度創(chuàng )新技術(shù)案例。軟件高效兼容：BEAM Xplorer支持GDS文件導入，簡(jiǎn)化復雜圖案設計流程。

無(wú)掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng )建復雜圖案。一個(gè)新加坡研究團隊通過(guò)無(wú)縫集成硬件和軟件組件，開(kāi)發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統。通過(guò)與計算機輔助設計軟件無(wú)縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統占用空間小，非常適合研究實(shí)驗室，并broad應用于微流體、電子學(xué)和納/微機械系統等各個(gè)領(lǐng)域。該系統的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實(shí)驗室以外的領(lǐng)域，為半導體和**公司提供了利用其功能的機會(huì )。掩模制備時(shí)間歸零，科研人員耗時(shí)減少 60%，項目交付周期縮短 50%。江蘇德國PSP-POLOS光刻機光源波長(cháng)405微米

快速自動(dòng)對焦：閉環(huán)對焦系統1秒完成，多層半自動(dòng)對準提升實(shí)驗效率。北京德國桌面無(wú)掩模光刻機

在微流體領(lǐng)域，Polos系列光刻機通過(guò)無(wú)掩模技術(shù)實(shí)現了復雜3D流道結構的快速成型。例如，中科院理化所利用類(lèi)似技術(shù)制備跨尺度微盤(pán)陣列，研究細胞球浸潤行為，為組織工程提供了新型生物界面設計策略10。Polos設備的精度與靈活性可支持此類(lèi)仿生結構的批量生產(chǎn)，推動(dòng)**診斷芯片的研發(fā)。無(wú)掩模光刻技術(shù)可以隨意進(jìn)行納米級圖案化，無(wú)需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒(méi)有任何妥協(xié)的情況下，將該技術(shù)帶到了桌面上，進(jìn)一步提升了其優(yōu)勢。北京德國桌面無(wú)掩模光刻機