廣東德國B(niǎo)EAM光刻機 生命科學(xué) 上海跡亞國際商貿供應

SPS POLOS ?以桌面化設計降低設備投入成本，無(wú)需掩膜制備費用。其光束引擎通過(guò)壓電驅動(dòng)快速掃描，單次寫(xiě)入區域達400 ?m，支持光刻膠如AZ5214E的高效曝光。研究案例顯示，該設備成功制備了間距3 ?m的微圖案陣列和叉指電容器，助力納米材料與柔性電子器件的快速原型驗證。無(wú)掩模光刻技術(shù)可以隨意進(jìn)行納米級圖案化，無(wú)需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒(méi)有任何妥協(xié)的情況下，將該技術(shù)帶到了桌面上，進(jìn)一步提升了其優(yōu)勢。微流體3D成型：復雜流道快速曝光，助力tumor篩查芯片與藥物遞送系統研發(fā)。廣東德國B(niǎo)EAM光刻機

某生物力學(xué)實(shí)驗室通過(guò) Polos 光刻機，在單一芯片上集成了壓阻式和電容式細胞力傳感器。其多材料曝光技術(shù)在 20μm 的懸臂梁上同時(shí)制備金屬電極與硅基壓阻元件，傳感器的力分辨率達 5pN，位移檢測精度達 1nm。在心肌細胞收縮力檢測中，該集成傳感器實(shí)現了力 - 電信號的同步采集，發(fā)現收縮力峰值與動(dòng)作電位時(shí)程的相關(guān)性達 0.92，為心臟電機械耦合機制研究提供了全新工具，相關(guān)論文發(fā)表于《Biophysical Journal》。無(wú)掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng )建復雜圖案。一個(gè)新加坡研究團隊通過(guò)無(wú)縫集成硬件和軟件組件，開(kāi)發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統。通過(guò)與計算機輔助設計軟件無(wú)縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統占用空間小，非常適合研究實(shí)驗室，并broad應用于微流體、電子學(xué)和納/微機械系統等各個(gè)領(lǐng)域。該系統的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實(shí)驗室以外的領(lǐng)域，為半導體和**公司提供了利用其功能的機會(huì )。安徽PSP光刻機電子學(xué)應用：2μm 線(xiàn)寬光刻能力，第三代半導體器件研發(fā)效率提升 3 倍。

德國 Polos 光刻機系列以其緊湊的設計，在有限的空間內發(fā)揮著(zhù)巨大作用。對于研究實(shí)驗室，尤其是空間資源緊張的高校和初創(chuàng )科研機構來(lái)說(shuō)，設備的空間占用是重要考量因素。Polos 光刻機占用空間小的特點(diǎn)，使其能夠輕松融入各類(lèi)實(shí)驗室環(huán)境。? 盡管體積小巧，但它的性能卻毫不遜色。無(wú)掩模激光光刻技術(shù)保障了高精度的圖案制作，低成本的優(yōu)勢降低了科研投入門(mén)檻。在小型實(shí)驗室中，科研人員使用 Polos 光刻機，在微流體、電子學(xué)等領(lǐng)域開(kāi)展研究，成功取得多項成果。從微納結構制造到新型器件研發(fā)，Polos 光刻機證明了小空間也能蘊藏大能量，為科研創(chuàng )新提供有力支持。

大尺寸晶圓的高效處理：Polos-BESM XL的優(yōu)勢！Polos-BESM XL Mk2專(zhuān)為6英寸晶圓設計，寫(xiě)入區域達155×155 mm，平臺重復性精度0.1 ?m，滿(mǎn)足工業(yè)級需求。搭配20x/0.75 NA尼康物鏡和120 FPS高清攝像頭，實(shí)時(shí)觀(guān)測與多層對準功能使其成為光子晶體和柔性電子器件研究的理想工具。其BEAM Xplorer軟件簡(jiǎn)化復雜圖案設計，內置高性能筆記本實(shí)現快速數據處理62。無(wú)掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng )建復雜圖案。一個(gè)新加坡研究團隊通過(guò)無(wú)縫集成硬件和軟件組件，開(kāi)發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統。通過(guò)與計算機輔助設計軟件無(wú)縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統占用空間小，非常適合研究實(shí)驗室，并broad應用于微流體、電子學(xué)和納/微機械系統等各個(gè)領(lǐng)域。該系統的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實(shí)驗室以外的領(lǐng)域，為半導體和**公司提供了利用其功能的機會(huì )。柔性電子制造：可制備叉指電容器與高頻電路，推動(dòng)5G通信與物聯(lián)網(wǎng)硬件發(fā)展。

單細胞分選需要復雜的流體動(dòng)力學(xué)控制結構，傳統光刻難以實(shí)現多尺度結構集成。Polos 光刻機的分層曝光功能，在同一片芯片上制備出 5μm 窄縫的細胞捕獲區與 50μm 寬的廢液通道，通道高度誤差控制在 ±2% 以?xún)?。某細胞生物學(xué)實(shí)驗室利用該芯片，將單細胞分選通量提升至 1000 個(gè) / 秒，分選純度達 98%，較傳統流式細胞儀體積縮小 90%。該技術(shù)已應用于循環(huán)tumor細胞檢測，使稀有細胞捕獲效率提升 3 倍，相關(guān)設備進(jìn)入臨床驗證階段。無(wú)掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng )建復雜圖案。一個(gè)新加坡研究團隊通過(guò)無(wú)縫集成硬件和軟件組件，開(kāi)發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統。通過(guò)與計算機輔助設計軟件無(wú)縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統占用空間小，非常適合研究實(shí)驗室，并broad應用于微流體、電子學(xué)和納/微機械系統等各個(gè)領(lǐng)域。該系統的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實(shí)驗室以外的領(lǐng)域，為半導體和**公司提供了利用其功能的機會(huì )。多材料兼容性：同步加工陶瓷 / PDMS / 金屬，微流控芯片集成電極與通道一步成型。廣東德國B(niǎo)EAM光刻機

快速自動(dòng)對焦：閉環(huán)對焦系統1秒完成，多層半自動(dòng)對準提升實(shí)驗效率。廣東德國B(niǎo)EAM光刻機

在構建肝臟芯片的血管化網(wǎng)絡(luò )時(shí)，某生物工程團隊使用 Polos 光刻機實(shí)現了跨尺度結構制備。其無(wú)掩模技術(shù)在 200μm 的主血管與 5μm 的blood capillary間precise銜接，血管內皮細胞貼壁率達 95%，較傳統光刻提升 30%。通過(guò)輸入 CT 掃描的真實(shí)肝臟血管數據，芯片成功模擬門(mén)靜脈與肝竇的血流梯度，使肝細胞功能維持時(shí)間從 7 天延長(cháng)至 21 天。該技術(shù)為藥物肝毒性測試提供了接近體內環(huán)境的模型，某制藥公司使用后將候選藥物篩選周期縮短 40%，相關(guān)成果登上《Lab on a Chip》封面。廣東德國B(niǎo)EAM光刻機